供应信息
INFICON射频传感器和薄膜沉积控制器
- 型号:齐全
INFICON射频传感器和薄膜沉积控制器
INFICON主要产品:INFICON射频传感器、INFICON真空计、INFICON薄膜沉积控制器。
INFICON射频传感器产品介绍:
INFICON射频传感技术能够为半导体过程工具提供高度准确、宽频、频率判别式射频测量。通过此射频数据,可以详细了解过程开发和生产过程问题中的实际等离子状态,大幅降低过程变异性。此款非接触嵌入式电缆安装的射频传感器是其过程控制现场传感器套件中的款传感器,可以与FabGuard传感器集成与分析系统结合使用,提供关键诊断信息,例如准确的腔室和过程功率与阻抗测量、故障根本原因分析(例如匹配网络问题)、用于腔室匹配的过程“指纹”识别以及PVD、CVD和蚀刻应用的晶片计量建模。
INFICON射频传感器技术利用FabGuard打造了高精确的产品,可通过对基本电压电流和谐波电压电流进行测量与分析(包括相角测量),预测晶片计量结果,因而工程师能够控制每个加工晶片的实际晶片计量结果。现在,FabGuard的强大算法性能与射频传感技术结合,可以基于实时测量以及易于理解的用户界面所提供的相关性分析,显著提高半导过程的可重复性、稳定性和准确性。
产品功能
CVD应用
-晶片计量建模(薄膜应力、薄膜厚度)
-对过程腔室提供的真正功率进行有功功率控制
-FDC(例如等离子体不稳定性、充电)
-腔室匹配(射频指纹)
PVD应用
-晶片计量建模(电阻率)
-FDC
-腔室匹配(射频指纹)
蚀刻应用
-晶片计量建模(蚀刻速率)
-对过程腔室提供的真正功率进行有功功率控制
-FDC
-腔室匹配(射频指纹)。
INFICON薄膜沉积控制器Cygnus2产品介绍:
Cygnus2薄膜沉积控制器在INFICON薄膜沉积控制器可靠成熟的性能基础上,增添了更多独特的功能,可帮助您实现OLED过程的价值。Cygnus2使用INFICONModeLock频率测量系统,提供稳定、高分辨率的速率和厚度测量,速率分辨率可达每1/10秒0.00433/s,是行业中的佼佼者。Cygnus2具有其他石英晶体控制器无法比拟的性能、品质和功能,赋予您的过程卓越的可重复性。
产品功能:
INFICONModeLock技术确保获得、稳定的速率和厚度测量分辨率,即使在速率极低的情况下
AutoZ技术通过自动测定沉积材料的Z比值,可提高厚度测量的精度
一个Cygnus2即可同时、单独或以任何组合方式控制多6个来源,无需使用两个或三个控制器
彩色TFTLCD显示屏使用户很容易看到过程的进展状况
10Hz测量
100ms样本速率下频率范围为+/-0.0035Hz
USB数据存储功能可存储屏幕截图、配方存储和数据记录
多个源厚度合计功能
测量低密度、低速率材料的平均速率(使用稳定源的低速率OLED掺杂材料沉积多30秒)
速率显示分辨率可达0.001
4米XIU选件能够在大型系统中使用较长的真空传感器电缆
无沉积控制允许持续控制源,因为基片可以通过沉积室不断循环
6个标准DAC输出和另外6个可选输出用于来源控制、速率或厚度监控
可选以太网通信
符合RoHS标准。
INFICON真空计产品特点:
测量范围从510-10mbar到2.710-2mbar(3.7510-10Torr到510-2Torr)
出色的可重复性,在10-8…10-2mbar工艺压力范围内为5%
过压检测保护,防止灯丝烧毁
两根长寿命氧化铱灯丝
发射电流选择,降低控制的繁琐
植入校准数据的传感器元件可确保规管的高精准性,并且易于更换
符合RoHS。